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Deposición física de vapor de dióxido de silicio en escamas de aluminio

Publicada como: CPE CBRND Seeking Physical Vapor Deposition (PVD) of Silicon Dioxide (SiO2) on Aluminum Flakes for Screening Obscuration Module - Multispect

Department of Defense

El comprador busca proveedores para el proceso de deposición física de vapor de dióxido de silicio sobre escamas de aluminio. Este proceso está destinado a utilizarse en un módulo de ocultación de detección multiespectral.

Resumen traducido por FindMyBids. Los documentos oficiales están en inglés y su propuesta normalmente debe presentarse en inglés.

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Vence el vie 13 de nov a las 5:00 PM

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Comprador: Department of Defense
Tipo: Federal
Publicada: mar 29 de sep, 2026
Fecha límite: Vence el vie 13 de nov a las 5:00 PM
Código NAICS: 332812
Fuente: SAM.gov (federal)

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